[發(fā)明專利]光學記錄介質(zhì)以及在其上記錄/再現(xiàn)數(shù)據(jù)的方法和設(shè)備無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200510064791.5 | 申請日: | 2005-04-22 |
| 公開(公告)號: | CN1691144A | 公開(公告)日: | 2005-11-02 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 李坰根;黃郁淵 | 申請(專利權(quán))人: | 三星電子株式會社 |
| 主分類號: | G11B7/00 | 分類號: | G11B7/00;G11B7/0045;G11B7/007 |
| 代理公司: | 北京銘碩知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人: | 韓明星;李云霞 |
| 地址: | 韓國*** | 國省代碼: | 韓國;KR |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 光學 記錄 介質(zhì) 以及 再現(xiàn) 數(shù)據(jù) 方法 設(shè)備 | ||
【權(quán)利要求書】:
下載完整專利技術(shù)內(nèi)容需要扣除積分,VIP會員可以免費下載。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于三星電子株式會社,未經(jīng)三星電子株式會社許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/200510064791.5/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:半導體基板的制造方法和電光學裝置的制造方法
- 下一篇:信息處理裝置





