[發(fā)明專利]電子束描繪系統(tǒng)、方法、程序及直接描繪制造半導(dǎo)體器件方法無效

申請?zhí)枺?/td>	200510063188.5	申請日：	2005-04-05
公開（公告）號：	CN1681085A	公開（公告）日：	2005-10-12
發(fā)明（設(shè)計(jì)）人：	中杉哲郎	申請（專利權(quán)）人：	株式會(huì)社東芝
主分類號：	H01L21/027	分類號：	H01L21/027;G03B7/20;H01J37/00
代理公司：	北京市中咨律師事務(wù)所	代理人：	陳海紅;段承恩
地址：	日本***	國省代碼：	日本;JP
權(quán)利要求書：	查看更多	說明書：	查看更多
摘要：
搜索關(guān)鍵詞：	電子束描繪系統(tǒng) 方法程序直接制造半導(dǎo)體器件
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