[發明專利]正相抗蝕膜的剝離方法、曝光用掩模的制造方法以及抗蝕劑剝離裝置無效
| 申請號： | 200510059701.3 | 申請日： | 2005-03-29 |
| 公開（公告）號： | CN1677247A | 公開（公告）日： | 2005-10-05 |
| 發明（設計）人： | 井村和久 | 申請（專利權）人： | HOYA株式會社 |
| 主分類號： | G03F7/42 | 分類號： | G03F7/42;G03F7/26;G03F7/00 |
| 代理公司： | 北京三友知識產權代理有限公司 | 代理人： | 丁香蘭 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 正相抗蝕膜 剝離 方法 曝光 用掩模 制造 以及 抗蝕劑 裝置 | ||
【說明書】：
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