[發(fā)明專(zhuān)利]物理氣相沉積法直接生長(zhǎng)成分單一的金屬納米線有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200510033669.1 | 申請(qǐng)日： | 2005-03-22 |
| 公開(kāi)（公告）號(hào)： | CN1696330A | 公開(kāi)（公告）日： | 2005-11-16 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 許寧生;周軍;鄧少芝;陳軍;佘峻聰 | 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人： | 中山大學(xué) |
| 主分類(lèi)號(hào)： | C23C14/24 | 分類(lèi)號(hào)： | C23C14/24;C23C14/14;C23C14/02 |
| 代理公司： | 廣州新諾專(zhuān)利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 | 代理人： | 華輝 |
| 地址： | 510275廣*** | 國(guó)省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 物理 沉積 直接 生長(zhǎng) 成分 單一 金屬 納米 | ||
【說(shuō)明書(shū)】：
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C23 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制
C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面擴(kuò)散法，化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過(guò)覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面擴(kuò)散法，化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過(guò)覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
