[發明專利]用低溫氮氣/氫氣灰化制程減少聚合物殘余的方法有效
| 申請號： | 200510030301.X | 申請日： | 2005-09-29 |
| 公開（公告）號： | CN1940731A | 公開（公告）日： | 2007-04-04 |
| 發明（設計）人： | 楊華;鄭蓮晃;韓秋華;韓蘊;高昀成 | 申請（專利權）人： | 中芯國際集成電路制造（上海）有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/42 | 分類號： | G03F7/42;G03F7/26 |
| 代理公司： | 上海新高專利商標代理有限公司 | 代理人： | 樓仙英 |
| 地址： | 201203上海市浦*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 低溫 氮氣 氫氣 灰化 減少 聚合物 殘余 方法 | ||
【說明書】：
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