[發(fā)明專利]非線性光學(xué)晶體Nb₂O₅: KTP的合成方法有效

申請?zhí)枺?/td>	200510020164.1	申請日：	2005-01-11
公開（公告）號：	CN1673424A	公開（公告）日：	2005-09-28
發(fā)明（設(shè)計(jì)）人：	張昌龍;黃凌雄;周衛(wèi)寧;張戈;霍漢德	申請（專利權(quán)）人：	桂林礦產(chǎn)地質(zhì)研究院
主分類號：	C30B29/14	分類號：	C30B29/14;C30B29/22
代理公司：	桂林市持衡專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司	代理人：	馬蘭
地址：	541004廣***	國省代碼：	廣西;45
權(quán)利要求書：	查看更多	說明書：	查看更多
摘要：
搜索關(guān)鍵詞：	非線性光學(xué) 晶體 nb sub ktp 合成方法
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