[發明專利]一種熱解氮化硼坩堝表層鍍膜方法及裝置有效
| 申請號： | 200510012052.1 | 申請日： | 2005-06-30 |
| 公開（公告）號： | CN1888126A | 公開（公告）日： | 2007-01-03 |
| 發明（設計）人： | 高永亮;惠峰;王文軍 | 申請（專利權）人： | 中國科學院半導體研究所 |
| 主分類號： | C23C14/08 | 分類號： | C23C14/08;C23C14/24;C30B15/00;F27B14/10 |
| 代理公司： | 中科專利商標代理有限責任公司 | 代理人： | 段成云 |
| 地址： | 100083北*** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 氮化 坩堝 表層 鍍膜 方法 裝置 | ||
【權利要求書】：
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