[發(fā)明專利]利用可變像散聚焦光斑切割的系統和方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200480007688.0 | 申請日： | 2004-02-19 |
| 公開（公告）號： | CN1761549A | 公開（公告）日： | 2006-04-19 |
| 發(fā)明（設計）人： | 帕特里克·J.·瑟塞爾;杰弗里·P.·瑟塞爾;瓊庫克·帕克 | 申請（專利權）人： | J.P.瑟塞爾聯合公司 |
| 主分類號： | B23K26/14 | 分類號： | B23K26/14 |
| 代理公司： | 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 | 代理人： | 蔣世迅 |
| 地址： | 美國新*** | 國省代碼： | 美國;US |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 利用 可變 聚焦 光斑 切割 系統 方法 | ||
【說明書】：
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