[發明專利]用于將厚膜成像的光致抗蝕劑組合物有效
| 申請號： | 200480007647.1 | 申請日： | 2004-03-09 |
| 公開（公告）號： | CN1761915A | 公開（公告）日： | 2006-04-19 |
| 發明（設計）人： | R·R·達米爾;S·邁耶;M·A·斯帕克 | 申請（專利權）人： | AZ電子材料美國公司 |
| 主分類號： | G03F7/004 | 分類號： | G03F7/004;G03F7/022;G03F7/016 |
| 代理公司： | 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 | 代理人： | 劉明海 |
| 地址： | 美國*** | 國省代碼： | 美國;US |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 用于 將厚膜 成像 光致抗蝕劑 組合 | ||
【說明書】：
下載完整專利技術內容需要扣除積分，VIP會員可以免費下載。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于AZ電子材料美國公司，未經AZ電子材料美國公司許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作，請聯系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/200480007647.1/2.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
