[發(fā)明專利]用于生產(chǎn)具有高折射指數(shù)的光學(xué)層的蒸汽沉積材料有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200480004750.0 | 申請(qǐng)日： | 2004-01-23 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN1751136A | 公開（公告）日： | 2006-03-22 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | M·福里茲;R·多姆布羅斯克;U·安瑟斯 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 默克專利股份有限公司 |
| 主分類號(hào)： | C23C14/08 | 分類號(hào)： | C23C14/08;C01F17/00;C04B35/64;C04B35/50;C04B35/622;B32B18/00;G02B1/10;C03C17/245 |
| 代理公司： | 中國(guó)國(guó)際貿(mào)易促進(jìn)委員會(huì)專利商標(biāo)事務(wù)所 | 代理人： | 任宗華 |
| 地址： | 德國(guó)達(dá)*** | 國(guó)省代碼： | 德國(guó);DE |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 用于 生產(chǎn) 具有 折射 指數(shù) 光學(xué) 蒸汽 沉積 材料 | ||
【說(shuō)明書】：
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C23 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制
C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面擴(kuò)散法，化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過(guò)覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面擴(kuò)散法，化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過(guò)覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
- 生產(chǎn)系統(tǒng)和生產(chǎn)方法
- 生產(chǎn)設(shè)備和生產(chǎn)方法
- 生產(chǎn)系統(tǒng)及產(chǎn)品生產(chǎn)方法
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- 生產(chǎn)系統(tǒng)及生產(chǎn)方法
- 生產(chǎn)系統(tǒng)和生產(chǎn)方法
