[發(fā)明專利]具有Co合金和Pt薄膜交替層疊結(jié)構(gòu)的垂直磁記錄介質(zhì)、其制造方法和裝置無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200410104938.4 | 申請日： | 2004-12-27 |
| 公開（公告）號： | CN1637869A | 公開（公告）日： | 2005-07-13 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 根本廣明;平山義幸;細江讓;兒玉峰章 | 申請（專利權(quán)）人： | 日立環(huán)球儲存科技荷蘭有限公司 |
| 主分類號： | G11B5/66 | 分類號： | G11B5/66;G11B5/851;C23C14/34 |
| 代理公司： | 中原信達知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 | 代理人： | 楊林森;谷惠敏 |
| 地址： | 荷蘭阿*** | 國省代碼： | 荷蘭;NL |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 具有 co 合金 pt 薄膜 交替 層疊 結(jié)構(gòu) 垂直 記錄 介質(zhì) 制造 方法 裝置 | ||
【說明書】：
下載完整專利技術(shù)內(nèi)容需要扣除積分，VIP會員可以免費下載。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息，商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于日立環(huán)球儲存科技荷蘭有限公司，未經(jīng)日立環(huán)球儲存科技荷蘭有限公司許可，擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作，請聯(lián)系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/200410104938.4/2.html，轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
