[發明專利]蒙脫土的插層和表面修飾及使用經插層和表面修飾后的蒙脫土制備聚丁二烯/蒙脫土納米復合材料的方法無效
| 申請號： | 200410102517.8 | 申請日： | 2004-12-24 |
| 公開（公告）號： | CN1796465A | 公開（公告）日： | 2006-07-05 |
| 發明（設計）人： | 李楊;徐宏德;呂占霞;朱峰;廖明義;張偉清;田婧 | 申請（專利權）人： | 中國石化北京燕化石油化工股份有限公司 |
| 主分類號： | C09C3/08 | 分類號： | C09C3/08;C08L47/00;C08K9/06;C08F2/44;C08F36/06;C08F4/48 |
| 代理公司： | 北京市中咨律師事務所 | 代理人： | 劉金輝 |
| 地址： | 102500*** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 蒙脫土 表面 修飾 使用 經插層 土制 丁二烯 納米 復合材料 方法 | ||
【說明書】：
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