[發(fā)明專利]基片偏斜消除系統(tǒng)和方法無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200410102086.5 | 申請(qǐng)日: | 2004-12-22 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN1637640A | 公開(kāi)(公告)日: | 2005-07-13 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | J·W·雅各布斯;T·R·埃尼;N·E·胡爾特 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 施樂(lè)公司 |
| 主分類號(hào): | G03G15/00 | 分類號(hào): | G03G15/00;G03G21/14;B65H7/00 |
| 代理公司: | 中國(guó)專利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 崔幼平 |
| 地址: | 美國(guó)康*** | 國(guó)省代碼: | 美國(guó);US |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 偏斜 消除 系統(tǒng) 方法 | ||
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- 專利分類
G03G 電記錄術(shù);電照相;磁記錄
G03G15-00 應(yīng)用電荷圖形的電記錄工藝的設(shè)備
G03G15-01 .用于生產(chǎn)多色復(fù)制品的
G03G15-02 .用于沉積均勻電荷的,即感光用的;電暈放電裝置
G03G15-04 .曝光用的,即將原件圖像光學(xué)投影到光導(dǎo)記錄材料上而進(jìn)行圖像曝光
G03G15-05 .用于圖像充電,例如,光敏控制屏、光觸發(fā)充電裝置
G03G15-054 .用X射線,例如,電放射術(shù)
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