[發明專利]光刻裝置和器件制造方法無效
| 申請號： | 200410102080.8 | 申請日： | 2004-12-22 |
| 公開（公告）號： | CN1637616A | 公開（公告）日： | 2005-07-13 |
| 發明（設計）人： | W·J·博西;H·J·埃金克 | 申請（專利權）人： | ASML荷蘭有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20;H01L21/00 |
| 代理公司： | 中國專利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 肖春京;胡強 |
| 地址： | 荷蘭維*** | 國省代碼： | 荷蘭;NL |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 光刻 裝置 器件 制造 方法 | ||
【權利要求書】：
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