[發明專利]場效應晶體管、集成電路及制造方法無效
| 申請號： | 200410086119.1 | 申請日： | 2004-10-19 |
| 公開（公告）號： | CN1624930A | 公開（公告）日： | 2005-06-08 |
| 發明（設計）人： | 小西里爾·卡伯拉爾;歐麥·H·多庫瑪斯;奧萊格·格魯斯切科夫 | 申請（專利權）人： | 國際商業機器公司 |
| 主分類號： | H01L29/772 | 分類號： | H01L29/772;H01L27/092;H01L27/12;H01L21/336;H01L21/8238;H01L21/84 |
| 代理公司： | 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 | 代理人： | 付建軍 |
| 地址： | 美國*** | 國省代碼： | 美國;US |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 場效應 晶體管 集成電路 制造 方法 | ||
【權利要求書】：
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