[發明專利]為產生X射線斷層造影圖像自動設置X射線劑量的方法無效
| 申請號： | 200410075253.1 | 申請日： | 2004-09-13 |
| 公開（公告）號： | CN1593342A | 公開（公告）日： | 2005-03-16 |
| 發明（設計）人： | 迪特馬·亨特謝爾;斯蒂芬·波普斯卡;克里斯托弗·薩斯;海科·沃爾夫 | 申請（專利權）人： | 西門子公司 |
| 主分類號： | A61B6/03 | 分類號： | A61B6/03 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律師事務所 | 代理人： | 馬瑩;邵亞麗 |
| 地址： | 聯邦德*** | 國省代碼： | 德國;DE |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 產生 射線 斷層 造影 圖像 自動 設置 劑量 方法 | ||
【權利要求書】：
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