[發(fā)明專利]清洗方法、半導(dǎo)體器件的制造方法及顯示器件的制造方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200410061563.8 | 申請日： | 2001-04-27 |
| 公開（公告）號： | CN1623689A | 公開（公告）日： | 2005-06-08 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 速水直哉 | 申請（專利權(quán)）人： | 東芝株式會社 |
| 主分類號： | B08B3/12 | 分類號： | B08B3/12;H01L21/302 |
| 代理公司： | 上海專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 | 代理人： | 張政權(quán) |
| 地址： | 日本神*** | 國省代碼： | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 清洗 方法 半導(dǎo)體器件 制造 顯示 器件 | ||
【權(quán)利要求書】：
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