[發(fā)明專利]無掩模微成影中用時間和/或功率調(diào)制獲得劑量灰度化無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200410058823.6 | 申請日： | 2004-07-30 |
| 公開（公告）號： | CN1580958A | 公開（公告）日： | 2005-02-16 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 溫賽斯勞·A.·賽布哈;賈森·D.·星特斯坦納;艾扎特·拉迪普夫;杰拉爾德·沃爾皮 | 申請（專利權(quán)）人： | ASML控股股份有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20;H01L21/00 |
| 代理公司： | 中國國際貿(mào)易促進(jìn)委員會專利商標(biāo)事務(wù)所 | 代理人： | 付建軍 |
| 地址： | 荷蘭費(fèi)*** | 國省代碼： | 荷蘭;NL |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 無掩模微成影 中用 時間 功率 調(diào)制 獲得 劑量 灰度 | ||
【權(quán)利要求書】：
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- 專利分類
G03 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)
G03F 圖紋面的照相制版工藝，例如，印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝；其所用材料；其所用原版；其所用專用設(shè)備
G03F7-00 圖紋面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工藝；圖紋面照相制版用的材料，如：含光致抗蝕劑的材料；圖紋面照相制版的專用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
G03F7-12 .網(wǎng)屏印刷模或類似印刷模的制作，例如，鏤花模版的制作
G03F7-14 .珂羅版印刷模的制作
G03F7-16 .涂層處理及其設(shè)備
G03F7-20 .曝光及其設(shè)備
G03F 圖紋面的照相制版工藝，例如，印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝；其所用材料；其所用原版；其所用專用設(shè)備
G03F7-00 圖紋面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工藝；圖紋面照相制版用的材料，如：含光致抗蝕劑的材料；圖紋面照相制版的專用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
G03F7-12 .網(wǎng)屏印刷模或類似印刷模的制作，例如，鏤花模版的制作
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G03F7-16 .涂層處理及其設(shè)備
G03F7-20 .曝光及其設(shè)備
