[發明專利]處理具有傾斜特征的掩模的系統與方法有效
| 申請號： | 200410057194.5 | 申請日： | 2004-08-27 |
| 公開（公告）號： | CN1648775A | 公開（公告）日： | 2005-08-03 |
| 發明（設計）人： | 林本堅;楊平;謝弘璋;辜耀進;林進祥;游秋山 | 申請（專利權）人： | 臺灣積體電路制造股份有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20;H01L21/00 |
| 代理公司： | 北京紀凱知識產權代理有限公司 | 代理人： | 趙蓉民 |
| 地址： | 臺灣省*** | 國省代碼： | 中國臺灣;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 處理 具有 傾斜 特征 系統 方法 | ||
【說明書】：
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