[發明專利]光刻裝置、器件制造方法以及由此制造的器件有效
| 申請號： | 200410054553.1 | 申請日： | 2004-07-23 |
| 公開（公告）號： | CN1577095A | 公開（公告）日： | 2005-02-09 |
| 發明（設計）人： | K·J·J·M·扎亞爾;T·A·R·范埃佩;J·J·奧坦斯;J·霍普曼 | 申請（專利權）人： | ASML荷蘭有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20;H01L21/00 |
| 代理公司： | 中國專利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 肖春京 |
| 地址： | 荷蘭維*** | 國省代碼： | 荷蘭;NL |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 光刻 裝置 器件 制造 方法 以及 由此 | ||
【說明書】：
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