[發(fā)明專(zhuān)利]等離子體刻蝕機(jī)臺(tái)在預(yù)防維護(hù)工藝后的監(jiān)控方法無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200410054223.2 | 申請(qǐng)日： | 2004-09-02 |
| 公開(kāi)（公告）號(hào)： | CN1743505A | 公開(kāi)（公告）日： | 2006-03-08 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 孫炳云;曹玖明;呂明政;卓震宇;光輝 | 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人： | 上海宏力半導(dǎo)體制造有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào)： | C23F1/12 | 分類(lèi)號(hào)： | C23F1/12;H01L21/3065;H01L21/465 |
| 代理公司： | 上海光華專(zhuān)利事務(wù)所 | 代理人： | 余明偉 |
| 地址： | 201203上海市浦東*** | 國(guó)省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 等離子體 刻蝕 機(jī)臺(tái) 預(yù)防 維護(hù) 工藝 監(jiān)控 方法 | ||
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