[發明專利]光刻裝置有效
| 申請號： | 200410047824.0 | 申請日： | 2004-05-31 |
| 公開（公告）號： | CN1573566A | 公開（公告）日： | 2005-02-02 |
| 發明（設計）人： | D·F·庫伊佩;J·C·康普特;J·范埃克;J·F·莫萊納亞;D·C·奧克維爾;J·W·M·C·蒂尤森;M·P·范德爾森;G·P·J·范德霍文;M·J·維沃德多克;M·G·帕爾多;G·J·維多斯;G·J·P·尼塞;P·F·格里維;J·范沃斯特;M·M·P·A·維梅倫;A·H·弗維 | 申請（專利權）人： | ASML荷蘭有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中國專利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 肖春京 |
| 地址： | 荷蘭維*** | 國省代碼： | 荷蘭;NL |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 光刻 裝置 | ||
【說明書】：
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