[發(fā)明專利]利用氫化物汽相外延方法在硅襯底上生長GaN薄膜無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200410041443.1 | 申請日： | 2004-07-21 |
| 公開（公告）號： | CN1599032A | 公開（公告）日： | 2005-03-23 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 張榮;俞慧強;陳琳;修向前;謝自力;鄭有炓;顧書林;沈波;江若璉;施毅;韓平;朱順明;胡立群 | 申請（專利權(quán)）人： | 南京大學 |
| 主分類號： | H01L21/205 | 分類號： | H01L21/205;C30B25/02;C30B29/40 |
| 代理公司： | 南京知識律師事務(wù)所 | 代理人： | 陳建和 |
| 地址： | 210093*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 利用 氫化物 外延 方法 襯底 生長 gan 薄膜 | ||
【權(quán)利要求書】：
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H01 基本電氣元件
H01L 半導體器件；其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置；專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理；集成電路器件或其特殊部件的制造
H01L 半導體器件；其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置；專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理；集成電路器件或其特殊部件的制造
