[發(fā)明專利]提高光學(xué)記錄介質(zhì)的覆寫周期壽命的膜層結(jié)構(gòu)無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200410031445.2 | 申請日： | 2004-03-31 |
| 公開（公告）號： | CN1677523A | 公開（公告）日： | 2005-10-05 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 王威翔;黃敏慧;林明宏;蔡蕙芳;陳威錫 | 申請（專利權(quán)）人： | 錸德科技股份有限公司 |
| 主分類號： | G11B7/24 | 分類號： | G11B7/24 |
| 代理公司： | 隆天國際知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人： | 經(jīng)志強(qiáng);潘培坤 |
| 地址： | 臺灣省*** | 國省代碼： | 中國臺灣;71 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 提高 光學(xué) 記錄 介質(zhì) 周期 壽命 結(jié)構(gòu) | ||
【權(quán)利要求書】：
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