[發明專利]化學機械研磨拋光系統中的拋光墊的調理方法無效
| 申請號： | 200410018600.7 | 申請日： | 2004-05-21 |
| 公開（公告）號： | CN1699016A | 公開（公告）日： | 2005-11-23 |
| 發明（設計）人： | 李京漋;馬智勇;余慧;徐根保 | 申請（專利權）人： | 中芯國際集成電路制造（上海）有限公司 |
| 主分類號： | B24B37/04 | 分類號： | B24B37/04;H01L21/302 |
| 代理公司： | 上海隆天新高專利商標代理有限公司 | 代理人： | 樓仙英 |
| 地址： | 201203上海市浦*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 化學 機械 研磨 拋光 系統 中的 調理 方法 | ||
【說明書】：
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