[發(fā)明專利]調(diào)強(qiáng)驗(yàn)證斷層和調(diào)強(qiáng)驗(yàn)證體模無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200410015539.0 | 申請(qǐng)日： | 2004-03-03 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN1560614A | 公開（公告）日： | 2005-01-05 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 張軍;李力 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 張軍 |
| 主分類號(hào)： | G01N23/083 | 分類號(hào)： | G01N23/083;G01N23/12 |
| 代理公司： | 暫無(wú)信息 | 代理人： | 暫無(wú)信息 |
| 地址： | 530021廣西壯族自治*** | 國(guó)省代碼： | 廣西;45 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 驗(yàn)證 斷層 | ||
【說(shuō)明書】：
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- 專利分類
G01 測(cè)量；測(cè)試
G01N 借助于測(cè)定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N23-00 利用未包括在G01N 21/00或G01N 22/00組內(nèi)的波或粒子輻射來(lái)測(cè)試或分析材料，例如X射線、中子
G01N23-02 .通過(guò)使輻射透過(guò)材料
G01N23-20 .利用輻射的衍射，例如，用于測(cè)試晶體結(jié)構(gòu)；利用輻射的反射
G01N23-22 .通過(guò)測(cè)量二次發(fā)射
G01N23-221 ..利用活化分析法
G01N23-223 ..通過(guò)用X射線輻照樣品以及測(cè)量X射線熒光
G01N 借助于測(cè)定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N23-00 利用未包括在G01N 21/00或G01N 22/00組內(nèi)的波或粒子輻射來(lái)測(cè)試或分析材料，例如X射線、中子
G01N23-02 .通過(guò)使輻射透過(guò)材料
G01N23-20 .利用輻射的衍射，例如，用于測(cè)試晶體結(jié)構(gòu)；利用輻射的反射
G01N23-22 .通過(guò)測(cè)量二次發(fā)射
G01N23-221 ..利用活化分析法
G01N23-223 ..通過(guò)用X射線輻照樣品以及測(cè)量X射線熒光
- 驗(yàn)證系統(tǒng)、驗(yàn)證服務(wù)器、驗(yàn)證方法、驗(yàn)證程序、終端、驗(yàn)證請(qǐng)求方法、驗(yàn)證請(qǐng)求程序和存儲(chǔ)媒體
- 驗(yàn)證目標(biāo)系統(tǒng)的驗(yàn)證系統(tǒng)及其驗(yàn)證方法
- 驗(yàn)證設(shè)備、驗(yàn)證方法和驗(yàn)證程序
- 驗(yàn)證裝置、驗(yàn)證系統(tǒng)以及驗(yàn)證方法
- 驗(yàn)證方法、驗(yàn)證系統(tǒng)、驗(yàn)證設(shè)備及其程序
- 驗(yàn)證方法、用于驗(yàn)證的系統(tǒng)、驗(yàn)證碼系統(tǒng)以及驗(yàn)證裝置
- 圖片驗(yàn)證碼驗(yàn)證方法和圖片驗(yàn)證碼驗(yàn)證裝置
- 驗(yàn)證裝置、驗(yàn)證程序和驗(yàn)證方法
- 驗(yàn)證裝置、驗(yàn)證方法及驗(yàn)證程序
- 跨多個(gè)驗(yàn)證域的驗(yàn)證系統(tǒng)、驗(yàn)證方法、驗(yàn)證設(shè)備
