[發(fā)明專利]轉(zhuǎn)動(dòng)掩模和抗蝕劑硅片的成像干涉光刻方法及其光刻系統(tǒng)無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200410009042.8 | 申請(qǐng)日： | 2004-04-26 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN1690858A | 公開（公告）日： | 2005-11-02 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 張錦;馮伯儒;劉娟;宗德蓉 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 中國(guó)科學(xué)院光電技術(shù)研究所 |
| 主分類號(hào)： | G03F7/20 | 分類號(hào)： | G03F7/20;H01L21/00 |
| 代理公司： | 北京科迪生專利代理有限責(zé)任公司 | 代理人： | 劉秀娟;成金玉 |
| 地址： | 610209*** | 國(guó)省代碼： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 轉(zhuǎn)動(dòng) 抗蝕劑 硅片 成像 干涉 光刻 方法 及其 系統(tǒng) | ||
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G03 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)
G03F 圖紋面的照相制版工藝，例如，印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝；其所用材料；其所用原版；其所用專用設(shè)備
G03F7-00 圖紋面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工藝；圖紋面照相制版用的材料，如：含光致抗蝕劑的材料；圖紋面照相制版的專用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
G03F7-12 .網(wǎng)屏印刷模或類似印刷模的制作，例如，鏤花模版的制作
G03F7-14 .珂羅版印刷模的制作
G03F7-16 .涂層處理及其設(shè)備
G03F7-20 .曝光及其設(shè)備
G03F 圖紋面的照相制版工藝，例如，印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝；其所用材料；其所用原版；其所用專用設(shè)備
G03F7-00 圖紋面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工藝；圖紋面照相制版用的材料，如：含光致抗蝕劑的材料；圖紋面照相制版的專用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
G03F7-12 .網(wǎng)屏印刷模或類似印刷模的制作，例如，鏤花模版的制作
G03F7-14 .珂羅版印刷模的制作
G03F7-16 .涂層處理及其設(shè)備
G03F7-20 .曝光及其設(shè)備
- 轉(zhuǎn)動(dòng)構(gòu)件和被轉(zhuǎn)動(dòng)構(gòu)件的轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)
- 轉(zhuǎn)動(dòng)體的轉(zhuǎn)動(dòng)控制裝置
- 轉(zhuǎn)動(dòng)關(guān)節(jié)及轉(zhuǎn)動(dòng)關(guān)節(jié)組件
- 轉(zhuǎn)動(dòng)關(guān)節(jié)及轉(zhuǎn)動(dòng)關(guān)節(jié)組件
- 包含轉(zhuǎn)動(dòng)體的轉(zhuǎn)動(dòng)組件
- 轉(zhuǎn)動(dòng)桿轉(zhuǎn)動(dòng)復(fù)位機(jī)構(gòu)
- 轉(zhuǎn)動(dòng)桿轉(zhuǎn)動(dòng)復(fù)位機(jī)構(gòu)
- 轉(zhuǎn)動(dòng)結(jié)構(gòu)及轉(zhuǎn)動(dòng)戒指
- 鐘表（指針不轉(zhuǎn)動(dòng)表盤轉(zhuǎn)動(dòng)）
- 轉(zhuǎn)動(dòng)組件及具有該轉(zhuǎn)動(dòng)組件的轉(zhuǎn)動(dòng)結(jié)構(gòu)
