[發(fā)明專利]用圖像計(jì)算機(jī)進(jìn)行方向?yàn)V波的X射線診斷設(shè)備無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200410007367.2 | 申請(qǐng)日： | 2004-03-01 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN1530645A | 公開（公告）日： | 2004-09-22 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 斯蒂芬·博姆;阿洛伊斯·諾特林 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 西門子公司 |
| 主分類號(hào)： | G01N23/04 | 分類號(hào)： | G01N23/04;A61B6/00;G06T5/00 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律師事務(wù)所 | 代理人： | 馬瑩;邵亞麗 |
| 地址： | 聯(lián)邦德*** | 國(guó)省代碼： | 德國(guó);DE |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 圖像 計(jì)算機(jī) 進(jìn)行 方向 濾波 射線 診斷 設(shè)備 | ||
【說(shuō)明書】：
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G01 測(cè)量；測(cè)試
G01N 借助于測(cè)定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N23-00 利用未包括在G01N 21/00或G01N 22/00組內(nèi)的波或粒子輻射來(lái)測(cè)試或分析材料，例如X射線、中子
G01N23-02 .通過(guò)使輻射透過(guò)材料
G01N23-20 .利用輻射的衍射，例如，用于測(cè)試晶體結(jié)構(gòu)；利用輻射的反射
G01N23-22 .通過(guò)測(cè)量二次發(fā)射
G01N23-221 ..利用活化分析法
G01N23-223 ..通過(guò)用X射線輻照樣品以及測(cè)量X射線熒光
