[發明專利]分散穩定性良好的研磨劑漿體及基板的制造方法有效
| 申請號： | 200410005562.1 | 申請日： | 2004-02-18 |
| 公開（公告）號： | CN1550537A | 公開（公告）日： | 2004-12-01 |
| 發明（設計）人： | 長俊連;巖城彰;麻生敏明 | 申請（專利權）人： | 多摩化學工業株式會社 |
| 主分類號： | C09K3/14 | 分類號： | C09K3/14 |
| 代理公司： | 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 | 代理人： | 陳昕 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 分散 穩定性 良好 研磨劑 制造 方法 | ||
【說明書】：
下載完整專利技術內容需要扣除積分，VIP會員可以免費下載。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于多摩化學工業株式會社，未經多摩化學工業株式會社許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作，請聯系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/200410005562.1/2.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇：音錘、鍵盤裝置及底盤
- 下一篇：用于過程伴隨清洗微型和小型反應器的方法和裝置
