[實(shí)用新型]局部復(fù)膜重離子微孔防偽標(biāo)識(shí)無效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200320122072.0 | 申請(qǐng)日： | 2003-11-21 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN2660629Y | 公開（公告）日： | 2004-12-01 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 劉宣瑋;王玉蘭;李甫;王振軍;陳大年 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 北京清華試金石新技術(shù)有限公司 |
| 主分類號(hào)： | G09F3/02 | 分類號(hào)： | G09F3/02;B32B5/00 |
| 代理公司： | 北京清亦華知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所 | 代理人： | 廖元秋 |
| 地址： | 100084*** | 國(guó)省代碼： | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 局部 復(fù)膜重 離子 微孔 防偽 標(biāo)識(shí) | ||
【說明書】：
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