[其他]帶無機物層離子膜的制備及其電解應用

在審

• 申請號: 101985000002088
• 申請日: 1985-04-01
• 公開（公告）號: CN85102088B
• 公開（公告）日: 1988-12-07
• 發明（設計）人: 李家麟;王慧中;寧遠謀
• 申請（專利權）人: 華中師范學院
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1、一種表面帶有無機物層的、適用于“零極距”電解工藝的離子交換膜的制備方法，其特征在于采用電解沉積技術，其步驟為：將一種耐氧化的含氟樹脂離子交換膜夾入電解沉積槽，該膜將電解沉積槽分為陽極室和陰極室，在陽極室插入陽極并注入陽極液，在陰極室插入陰極并注入陰極液，在電解液（陽極液和/或陰極液）中存在一種可絡合被沉積金屬離子的絡合劑，被沉積的元素為鈦、鋯、銻、鎢和釷中的任一種，它可以以陽離子、含氧陰離子、絡離子（荷正電或負電）或膠體中的任一種形式存在于電解液中，電解沉積過程的電流密度為0.05-100A/dm²，溫度為25°-95℃。

2、如權利要求1所述的方法，其特征在于被沉積元素主要沉積在離子交換膜的向陰極面上，當膜被裝入“零極距”電槽時，該面與陰極相緊貼。

3、如權利要求1所述的方法，其特征在于電解沉積過程的電流密度為0.2-30A/dm²。