[其他]光學信息記錄裝置

在審

• 申請號: 101985000001969
• 申請日: 1985-04-01
• 公開（公告）號: CN1004839B
• 公開（公告）日: 1989-07-19
• 發明（設計）人: 賀來敏光;仲尾武司;角田義人
• 申請（專利權）人: 日立制作所株式會社
• 代理公司: 中國專利代理有限公司
• 代理人: 吳秉芬;黃向陽

一光學信息記錄裝置，將多個光束聚焦在一個圓盤上，形成一個寫／讀光點，或者是一個消跡光點。利用測定圓盤軌跡上的光點位置來控制光點之間的距離，即光點之間的長度，使得即使圓盤上的光點位置在徑向方向上不同時，信息的寫／讀／消跡仍是均勻的、準確的。

本項發明涉及一個光學信息記錄裝置。主要是利用兩個光點，有效地完成對剛記錄完的錯誤進行校正;和完成寫/讀/消跡。

正如先有技術EP-Al-0019924和JP60-47242（A）所公開的那樣，通常使用的光學圓盤有兩種方法。一種方法是記錄即寫入后，對錯誤完成校正作用;另一種方法是完成寫/讀/消跡作用。兩種方法使用的是兩個光點。前者，第一種方法使用的程序書寫光點和讀出即再現光點是在同一軌跡上相互緊連著的。程序書寫光點把數據一經記錄下來，讀出光點即將所記錄的數據顯示出來，從而對錯誤進行校正。后一種方法是在光學圓盤上，使用了一種硫族化物物質，并用激光光束照射在這種硫族化物物質上，使其形成晶狀或非晶狀，以此來顯示寫/消跡信息。使用這種方法，程序環形讀/寫光點和橢圓形的消跡光點，在同一軌跡上相互緊連著。以此為前提，以短光脈沖的形式照射程序讀/寫光點，迅速使硫族化物物質受熱，和冷卻，這樣使其形成非晶狀;而消跡光點則以相對的長光脈沖的形式進行照射，逐漸地加熱和冷卻硫族化物物質，使其形成晶狀，以此完成寫/讀/消跡的程序。

但是，在兩種方法中，圓盤旋轉速度是恒定的，兩個光點之間的距離也是固定的，而圓盤內外圓周位置的線速度不一樣，所以兩個光點之間的時間間隔，由于其在圓盤上位置的不同而不同。照此道理，在錯誤校正程序中，由于再現信號時間的錯誤而產生的錯誤，使錯誤校正無效。而在寫/讀/消跡程序中，消跡部分的位置是可以移動的。特別是當消跡時，由于圓盤內外圓周位置之間的線速度不同，那么，消除一個記錄點的光束所需照射的時間周期隨著圓盤上的不同位置而發生變化。這樣就影響了圓盤內外圓周的消跡作用，其結果就不能均勻、準確地對整個圓盤表面的記錄信息進行消跡。

本項發明想解決上述問題，并以此為目的，提出光學信息記錄裝置。此裝置能夠均勻、準確地在整個圓盤表面上完成寫/讀/消跡程序。

為了實現上述目的，本項發明的特點是：許多光束聚焦成許多用于信息的寫、讀、消跡程序的光點。在圓盤徑向方向上，至少有一個光點的位置受到測定。而根據測定的結果，這個光點中心位置受到控制，使其沿著軌跡而發生變化。例如：在使用聲-光（A/O）調制器來控制光點的位置的地方，那么聲-光（A/O）調制器中使用的超聲波的頻率分量是根據測定光點位置的結果來進行控制的，由此來變化許多光線的反射方向，從而控制至少是一束光線的中心位置。

本項發明詳細介紹如下：且伴有圖解說明。

圖1是根據本發明第一個實施例的光學信息記錄裝置的方塊圖。

圖2a、2b是改進型的第一實施例的說明圖。

圖3是根據本項發明第二個實施例的裝置方塊圖。

圖4是說明聲-光（A/O）驅動器結構的方塊圖。

圖5是根據本發明第三個實施例裝置的方塊圖。

圖6是寫/讀光點WS和消跡光點ES之間不同的位置關系的圖解說明。

圖7是聲-光（A/O）調制器的驅動電路的方塊圖。

圖8是控制消跡光點的控制器方塊圖。