[發(fā)明專(zhuān)利]將基片傳遞給用于盤(pán)形基片的薄膜形成裝置的方法 ,在該方法中使用的基片傳遞機(jī)構(gòu)和基片托架 ,以及使用該方法的盤(pán)形記錄媒體制造方法無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 03814363.1 | 申請(qǐng)日： | 2003-06-16 |
| 公開(kāi)（公告）號(hào)： | CN1662978A | 公開(kāi)（公告）日： | 2005-08-31 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 越川政人;渡邊英昭 | 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人： | TDK株式會(huì)社 |
| 主分類(lèi)號(hào)： | G11B7/26 | 分類(lèi)號(hào)： | G11B7/26;C23C14/04;C23C14/50 |
| 代理公司： | 北京市中咨律師事務(wù)所 | 代理人： | 吳鵬;馬江立 |
| 地址： | 日本*** | 國(guó)省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 將基片 傳遞 用于 盤(pán)形基片 薄膜 形成 裝置 方法 使用 機(jī)構(gòu) 托架 以及 記錄 媒體 制造 | ||
【說(shuō)明書(shū)】：
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G11 信息存儲(chǔ)
G11B 基于記錄載體和換能器之間的相對(duì)運(yùn)動(dòng)而實(shí)現(xiàn)的信息存儲(chǔ)
G11B7-00 用光學(xué)方法，例如，用光輻射的熱射束記錄用低功率光束重現(xiàn)的；為此所用的記錄載體
G11B7-002 .按載體形狀區(qū)分的記錄、重現(xiàn)或抹除系統(tǒng)
G11B7-004 .記錄、重現(xiàn)或抹除方法；為此所用的讀、寫(xiě)或抹除電路
G11B7-007 .記錄載體上信息的排列，例如，軌跡的形式
G11B7-08 .傳感頭或光源相對(duì)于記錄載體的配置或安裝
G11B7-12 .換能頭，例如光束點(diǎn)的形成或光束的調(diào)制
G11B 基于記錄載體和換能器之間的相對(duì)運(yùn)動(dòng)而實(shí)現(xiàn)的信息存儲(chǔ)
G11B7-00 用光學(xué)方法，例如，用光輻射的熱射束記錄用低功率光束重現(xiàn)的；為此所用的記錄載體
G11B7-002 .按載體形狀區(qū)分的記錄、重現(xiàn)或抹除系統(tǒng)
G11B7-004 .記錄、重現(xiàn)或抹除方法；為此所用的讀、寫(xiě)或抹除電路
G11B7-007 .記錄載體上信息的排列，例如，軌跡的形式
G11B7-08 .傳感頭或光源相對(duì)于記錄載體的配置或安裝
G11B7-12 .換能頭，例如光束點(diǎn)的形成或光束的調(diào)制
- 將基片傳遞給用于盤(pán)形基片的薄膜形成裝置的方法、基片傳遞機(jī)構(gòu)和該方法中使用的掩模 ,以及使用該方法的盤(pán)形記錄媒體制造方法
- 將基片傳遞給用于盤(pán)形基片的薄膜形成裝置的方法 ,在該方法中使用的基片傳遞機(jī)構(gòu)和基片托架 ,以及使用該方法的盤(pán)形記錄媒體制造方法
- 將基片傳遞給用于盤(pán)形基片的薄膜形成裝置的方法 ,在該方法中使用的基片傳遞機(jī)構(gòu)和基片托架 ,以及使用該方法的盤(pán)形記錄媒體制造方法
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