[發明專利]用于避免和清潔光學元件上污染物的裝置,EUV石版印刷設備和方法有效
| 申請號： | 03805514.7 | 申請日： | 2003-03-07 |
| 公開（公告）號： | CN1639643A | 公開（公告）日： | 2005-07-13 |
| 發明（設計）人： | 馬爾科·溫德沃斯基;弗蘭科·斯蒂茲;巴斯·默騰斯;羅曼·克萊因 | 申請（專利權）人： | 卡爾賽斯半導體制造技術股份公司 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20;B08B7/00 |
| 代理公司： | 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 | 代理人： | 李勇 |
| 地址： | 德國*** | 國省代碼： | 德國;DE |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 用于 避免 清潔 光學 元件 污染物 裝置 euv 石版 印刷 設備 方法 | ||
【權利要求書】：
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