[發(fā)明專(zhuān)利]制造盤(pán)狀光學(xué)記錄介質(zhì)的方法及盤(pán)狀光學(xué)記錄介質(zhì)無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 03802380.6 | 申請(qǐng)日: | 2003-01-17 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN1618098A | 公開(kāi)(公告)日: | 2005-05-18 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 宇佐美守;丑田智樹(shù);山家研二;坂井由美 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | TDK股份有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | G11B7/26 | 分類(lèi)號(hào): | G11B7/26;G11B7/24 |
| 代理公司: | 隆天國(guó)際知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人: | 經(jīng)志強(qiáng);臧建明 |
| 地址: | 日本國(guó)*** | 國(guó)省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 制造 光學(xué) 記錄 介質(zhì) 方法 | ||
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- 同類(lèi)專(zhuān)利
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G11B 基于記錄載體和換能器之間的相對(duì)運(yùn)動(dòng)而實(shí)現(xiàn)的信息存儲(chǔ)
G11B7-00 用光學(xué)方法,例如,用光輻射的熱射束記錄用低功率光束重現(xiàn)的;為此所用的記錄載體
G11B7-002 .按載體形狀區(qū)分的記錄、重現(xiàn)或抹除系統(tǒng)
G11B7-004 .記錄、重現(xiàn)或抹除方法;為此所用的讀、寫(xiě)或抹除電路
G11B7-007 .記錄載體上信息的排列,例如,軌跡的形式
G11B7-08 .傳感頭或光源相對(duì)于記錄載體的配置或安裝
G11B7-12 .換能頭,例如光束點(diǎn)的形成或光束的調(diào)制
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