[發明專利]用于光刻系統的對準系統和方法有效
| 申請號： | 03164859.2 | 申請日： | 2003-09-19 |
| 公開（公告）號： | CN1506768A | 公開（公告）日： | 2004-06-23 |
| 發明（設計）人： | F·B·M·范比森;J·伯格胡恩;R·J·F·范哈倫;P·C·欣南;H·G·范霍斯森;J·休布雷格特塞;A·B·約伊寧克;H·梅根斯;R·納瓦羅科倫;H·P·T·托斯馬;H·J·G·西蒙斯;J·R·舒爾休斯;S·I·徹特斯;Y·B·李;A·R·鄧巴 | 申請（專利權）人： | ASML荷蘭有限公司 |
| 主分類號： | G03F9/00 | 分類號： | G03F9/00;G03F7/20;H01S3/00;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中國專利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 章社杲 |
| 地址： | 荷蘭維*** | 國省代碼： | 荷蘭;NL |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 用于 光刻 系統 對準 方法 | ||
【說明書】：
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