[發(fā)明專利]光刻裝置、器件的制造方法和由此制得的器件有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 03143879.2 | 申請日： | 2003-06-11 |
| 公開（公告）號： | CN1501168A | 公開（公告）日： | 2004-06-02 |
| 發(fā)明（設計）人： | P·M·H·沃斯特斯;H·雅各布斯;M·范霍伊門;N·R·肯珀 | 申請（專利權）人： | ASML荷蘭有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20;H01L21/027;H01L21/68 |
| 代理公司： | 中國專利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 黃力行 |
| 地址： | 荷蘭維*** | 國省代碼： | 荷蘭;NL |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 光刻 裝置 器件 制造 方法 由此 | ||
【權利要求書】：
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