[發(fā)明專利]設(shè)計(jì)相柵圖形的方法，以及光掩模系統(tǒng)的制造方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 03142997.1 | 申請日： | 2003-06-23 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN1487363A | 公開（公告）日： | 2004-04-07 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 樸鐘洛 | 申請（專利權(quán)）人： | 三星電子株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào)： | G03F7/20 | 分類號(hào)： | G03F7/20;G03F9/00;G03F1/16;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中原信達(dá)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 | 代理人： | 謝麗娜;谷惠敏 |
| 地址： | 韓國京畿*** | 國省代碼： | 韓國;KR |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 設(shè)計(jì) 圖形 方法 以及 光掩模 系統(tǒng) 制造 | ||
【說明書】：
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G03 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)
G03F 圖紋面的照相制版工藝，例如，印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝；其所用材料；其所用原版；其所用專用設(shè)備
G03F7-00 圖紋面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工藝；圖紋面照相制版用的材料，如：含光致抗蝕劑的材料；圖紋面照相制版的專用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
G03F7-12 .網(wǎng)屏印刷模或類似印刷模的制作，例如，鏤花模版的制作
G03F7-14 .珂羅版印刷模的制作
G03F7-16 .涂層處理及其設(shè)備
G03F7-20 .曝光及其設(shè)備
G03F 圖紋面的照相制版工藝，例如，印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝；其所用材料；其所用原版；其所用專用設(shè)備
G03F7-00 圖紋面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工藝；圖紋面照相制版用的材料，如：含光致抗蝕劑的材料；圖紋面照相制版的專用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
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