[發(fā)明專(zhuān)利]非易失性半導(dǎo)體存儲(chǔ)器的制造方法和非易失性半導(dǎo)體存儲(chǔ)器無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 03133093.2 | 申請(qǐng)日： | 2003-07-25 |
| 公開(kāi)（公告）號(hào)： | CN1477701A | 公開(kāi)（公告）日： | 2004-02-25 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 井口直;角田弘昭 | 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人： | 株式會(huì)社東芝 |
| 主分類(lèi)號(hào)： | H01L21/8246 | 分類(lèi)號(hào)： | H01L21/8246;H01L21/8239 |
| 代理公司： | 中國(guó)國(guó)際貿(mào)易促進(jìn)委員會(huì)專(zhuān)利商標(biāo)事務(wù)所 | 代理人： | 王永剛 |
| 地址： | 日本*** | 國(guó)省代碼： | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書(shū)： | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū)： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 非易失性 半導(dǎo)體 存儲(chǔ)器 制造 方法 | ||
【說(shuō)明書(shū)】：
下載完整專(zhuān)利技術(shù)內(nèi)容需要扣除積分，VIP會(huì)員可以免費(fèi)下載。
該專(zhuān)利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息，商用須獲得專(zhuān)利權(quán)人授權(quán)。該專(zhuān)利全部權(quán)利屬于株式會(huì)社東芝，未經(jīng)株式會(huì)社東芝許可，擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買(mǎi)此專(zhuān)利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作，請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/03133093.2/2.html，轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專(zhuān)利網(wǎng)。
- 同類(lèi)專(zhuān)利
- 專(zhuān)利分類(lèi)
H01 基本電氣元件
H01L 半導(dǎo)體器件；其他類(lèi)目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專(zhuān)門(mén)適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專(zhuān)門(mén)適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過(guò)程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專(zhuān)門(mén)適用于在制造或處理過(guò)程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置；專(zhuān)門(mén)適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過(guò)程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理；集成電路器件或其特殊部件的制造
H01L 半導(dǎo)體器件；其他類(lèi)目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專(zhuān)門(mén)適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專(zhuān)門(mén)適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過(guò)程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專(zhuān)門(mén)適用于在制造或處理過(guò)程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置；專(zhuān)門(mén)適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過(guò)程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理；集成電路器件或其特殊部件的制造
- 將數(shù)據(jù)存儲(chǔ)在非易失性高速緩沖存儲(chǔ)器中的設(shè)備和方法
- 抑制寄生電荷積累的非易失性存儲(chǔ)器件及其操作方法
- 非易失性存儲(chǔ)裝置、非易失性存儲(chǔ)系統(tǒng)及存取裝置
- 非易失性存儲(chǔ)門(mén)及其動(dòng)作方法、及非易失性存儲(chǔ)門(mén)裝入型邏輯電路及其動(dòng)作方法
- 從非易失性塊存儲(chǔ)設(shè)備至處理設(shè)備的健康報(bào)告
- 非易失性數(shù)據(jù)備份和恢復(fù)方法
- 易失性/非易失性SRAM器件
- 具有非易失性邏輯陣列備份相關(guān)應(yīng)用的處理裝置
- 基于一對(duì)多頁(yè)面映射的非易失內(nèi)存數(shù)據(jù)一致性更新方法
- 一種非易失性數(shù)據(jù)的讀寫(xiě)方法及裝置
- 用于控制非易失性存儲(chǔ)器的控制器
- 處理器、存儲(chǔ)器、計(jì)算機(jī)系統(tǒng)、系統(tǒng)LSI及其驗(yàn)證方法
- 存儲(chǔ)和檢索處理系統(tǒng)的數(shù)據(jù)的存儲(chǔ)器系統(tǒng)和性能監(jiān)視方法
- 用于控制半導(dǎo)體裝置的方法
- 存儲(chǔ)器存儲(chǔ)裝置及其測(cè)試方法
- 存儲(chǔ)器裝置及可促進(jìn)張量存儲(chǔ)器存取的方法
- 使用雙通道存儲(chǔ)器作為具有間隔的單通道存儲(chǔ)器
- 用于管理存儲(chǔ)器訪問(wèn)操作的方法和系統(tǒng)
- 存儲(chǔ)器控制器、存儲(chǔ)裝置和存儲(chǔ)裝置的操作方法
- 具有部分組刷新的存儲(chǔ)器
- 氫燃料制造系統(tǒng)、氫燃料制造方法以及氫燃料制造程序
- 單元控制系統(tǒng)、生產(chǎn)系統(tǒng)以及控制方法
- 制造裝置及制造方法以及制造系統(tǒng)
- 一種三相異步電動(dòng)機(jī)制造工藝方法
- 制造設(shè)備、制造裝置和制造方法
- 用于監(jiān)測(cè)光學(xué)鏡片制造過(guò)程的方法
- 產(chǎn)品的制造系統(tǒng)、惡意軟件檢測(cè)系統(tǒng)、產(chǎn)品的制造方法以及惡意軟件檢測(cè)方法
- 一種面向制造服務(wù)的制造能力評(píng)估方法
- 一種基于云制造資源的制造能力建模方法
- 制造設(shè)備系統(tǒng)、制造設(shè)備以及制造方法
