[發(fā)明專(zhuān)利]微鑄碳化硅納米壓印模無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 03133077.0 | 申請(qǐng)日： | 2003-07-24 |
| 公開(kāi)（公告）號(hào)： | CN1499289A | 公開(kāi)（公告）日： | 2004-05-26 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | H·李;G·－Y·容 | 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人： | 惠普開(kāi)發(fā)有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào)： | G03F7/00 | 分類(lèi)號(hào)： | G03F7/00;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中國(guó)專(zhuān)利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 肖春京 |
| 地址： | 美國(guó)德*** | 國(guó)省代碼： | 美國(guó);US |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 碳化硅 納米 壓印 | ||
【權(quán)利要求書(shū)】：
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- 同類(lèi)專(zhuān)利
- 專(zhuān)利分類(lèi)
G03 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類(lèi)似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)
G03F 圖紋面的照相制版工藝，例如，印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝；其所用材料；其所用原版；其所用專(zhuān)用設(shè)備
G03F7-00 圖紋面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工藝；圖紋面照相制版用的材料，如：含光致抗蝕劑的材料；圖紋面照相制版的專(zhuān)用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
G03F7-12 .網(wǎng)屏印刷模或類(lèi)似印刷模的制作，例如，鏤花模版的制作
G03F7-14 .珂羅版印刷模的制作
G03F7-16 .涂層處理及其設(shè)備
G03F7-20 .曝光及其設(shè)備
G03F 圖紋面的照相制版工藝，例如，印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝；其所用材料；其所用原版；其所用專(zhuān)用設(shè)備
G03F7-00 圖紋面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工藝；圖紋面照相制版用的材料，如：含光致抗蝕劑的材料；圖紋面照相制版的專(zhuān)用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
G03F7-12 .網(wǎng)屏印刷模或類(lèi)似印刷模的制作，例如，鏤花模版的制作
G03F7-14 .珂羅版印刷模的制作
G03F7-16 .涂層處理及其設(shè)備
G03F7-20 .曝光及其設(shè)備
