[發明專利]光刻裝置及器件制造方法有效
| 申請號： | 03133021.5 | 申請日： | 2003-06-05 |
| 公開（公告）號： | CN1479174A | 公開（公告）日： | 2004-03-03 |
| 發明（設計）人： | H·H·M·科克斯;R·N·J·范巴勒戈伊;P·M·H·沃斯特斯;S·A·J·霍爾;S·M·J·科爾內利森 | 申請（專利權）人： | ASML荷蘭有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20;G03F7/00;H01L21/027;H01L21/68 |
| 代理公司： | 中國專利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 章社杲 |
| 地址： | 荷蘭維*** | 國省代碼： | 荷蘭;NL |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 光刻 裝置 器件 制造 方法 | ||
【說明書】：
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