[發明專利]光刻裝置和器件的制作方法有效
| 申請號： | 03128643.7 | 申請日： | 2003-03-26 |
| 公開（公告）號： | CN1448790A | 公開（公告）日： | 2003-10-15 |
| 發明（設計）人： | L·P·巴克爾;J·榮克爾斯;A·J·J·范迪塞爾東克;M·M·T·M·迪里希斯 | 申請（專利權）人： | ASML荷蘭有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/00 | 分類號： | G03F7/00;G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中國專利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 章社杲 |
| 地址： | 荷蘭維爾*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 光刻 裝置 器件 制作方法 | ||
【說明書】：
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