[發(fā)明專利]聚丙烯/蒙脫土插層型的納米復(fù)合材料的制備方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 03115233.3 | 申請日： | 2003-01-28 |
| 公開（公告）號： | CN1446852A | 公開（公告）日： | 2003-10-08 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 任杰;顧書英 | 申請（專利權(quán)）人： | 同濟(jì)大學(xué) |
| 主分類號： | C08L51/06 | 分類號： | C08L51/06;C08K3/34;B29C47/40 |
| 代理公司： | 上海正旦專利代理有限公司 | 代理人： | 姚靜芳,王福新 |
| 地址： | 200092*** | 國省代碼： | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 聚丙烯 蒙脫土插層型 納米 復(fù)合材料 制備 方法 | ||
【權(quán)利要求書】：
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