[發明專利]對準方法、對準基底,光刻裝置和器件制造方法無效
| 申請號： | 03110779.6 | 申請日： | 2003-02-27 |
| 公開（公告）號： | CN1442757A | 公開（公告）日： | 2003-09-17 |
| 發明（設計）人： | J·洛夫;H·W·M·范比爾;桂成群;F·G·C·比寧 | 申請（專利權）人： | ASML荷蘭有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 中國專利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 黃力行 |
| 地址： | 荷蘭維爾*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 對準 方法 基底 光刻 裝置 器件 制造 | ||
【權利要求書】：
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