[發(fā)明專利]真空蒸鍍用多面成形掩模裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 02803295.0 | 申請日： | 2002-08-23 |
| 公開（公告）號： | CN1480011A | 公開（公告）日： | 2004-03-03 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 土屋輝直;坂田卓也 | 申請（專利權(quán)）人： | 大日本印刷株式會社 |
| 主分類號： | H05B33/10 | 分類號： | H05B33/10;C23C14/04 |
| 代理公司： | 中國專利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 張?zhí)彀?鄭建暉 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 真空 蒸鍍用 多面 成形 裝置 | ||
【說明書】：
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