[發(fā)明專利]光學記錄還原介質(zhì),制造光學記錄還原介質(zhì)的母盤模片,和光學記錄還原裝置無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 02802462.1 | 申請日： | 2002-06-26 |
| 公開（公告）號： | CN1465054A | 公開（公告）日： | 2003-12-31 |
| 發(fā)明（設計）人： | 遠藤惣銘;永野信廣;中野淳 | 申請（專利權(quán)）人： | 索尼株式會社 |
| 主分類號： | G11B7/24 | 分類號： | G11B7/24 |
| 代理公司： | 中國國際貿(mào)易促進委員會專利商標事務所 | 代理人： | 李德山 |
| 地址： | 暫無信息 | 國省代碼： | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 光學 記錄 還原 介質(zhì) 制造 母盤 裝置 | ||
【說明書】：
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