[發明專利]高純氟氣體、其生產方法和用途和分析高純氟氣體中的痕量不純物的方法無效
| 申請號： | 02802243.2 | 申請日： | 2002-06-27 |
| 公開（公告）號： | CN1639058A | 公開（公告）日： | 2005-07-13 |
| 發明（設計）人： | 鳥巢純一;跡邊仁志;星野恭之 | 申請（專利權）人： | 昭和電工株式會社 |
| 主分類號： | C01B7/20 | 分類號： | C01B7/20;C01G53/08;G01N30/14;G01N21/35;H01S3/225 |
| 代理公司： | 北京市中咨律師事務所 | 代理人： | 林柏楠;劉金輝 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 高純 氟氣 生產 方法 用途 分析 中的 痕量 不純 | ||
【說明書】：
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