[發明專利]一種光刻儀及其器件制造方法有效
| 申請號： | 02160511.4 | 申請日： | 2002-12-26 |
| 公開（公告）號： | CN1434351A | 公開（公告）日： | 2003-08-06 |
| 發明（設計）人： | L·巴克爾;J·榮克爾斯;H·M·菲瑟 | 申請（專利權）人： | ASML荷蘭有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20;G03F7/16;H05H1/00 |
| 代理公司： | 中國專利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 章社杲 |
| 地址： | 荷蘭維爾*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 光刻 及其 器件 制造 方法 | ||
【說明書】：
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