[發明專利]一種無掩模納米圖形制作方法及其制作裝置無效
| 申請號： | 02153955.3 | 申請日： | 2002-12-09 |
| 公開（公告）號： | CN1506761A | 公開（公告）日： | 2004-06-23 |
| 發明（設計）人： | 陳獻忠;姚漢民;陳旭南;石建平;李展;高洪濤;陳元培 | 申請（專利權）人： | 中國科學院光電技術研究所 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20;G03F7/30;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京科迪生專利代理有限責任公司 | 代理人： | 劉秀娟 |
| 地址： | 610209*** | 國省代碼： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 無掩模 納米 圖形 制作方法 及其 制作 裝置 | ||
【權利要求書】：
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