[發(fā)明專利]投影光學(xué)系統(tǒng)，曝光裝置以及設(shè)備的制造方法無效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 02146669.6 | 申請(qǐng)日： | 2002-11-01 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN1417610A | 公開（公告）日： | 2003-05-14 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 重松幸二;工藤慎太郎 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 尼康株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào)： | G02B13/18 | 分類號(hào)： | G02B13/18;G02B13/22;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京集佳專利商標(biāo)事務(wù)所 | 代理人： | 王學(xué)強(qiáng) |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 投影 光學(xué)系統(tǒng) 曝光 裝置 以及 設(shè)備 制造 方法 | ||
【權(quán)利要求書】：
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